تفاوت بین پوشش کندوپاش و پوشش خلاء در شرکت شیشه

بر خلاف تبخیر خلاء، کندوپاش استفاده از یون‌های پرانرژی برای برخورد با مواد هدف است، به طوری که تشکیل اتم‌ها، مولکول‌ها، یون‌ها به بیرون پرواز می‌کنند و در نتیجه یک لایه روی لایه تشکیل می‌شود.

این روش ابزارسازی رایج ترین روش مورد استفاده در کارخانه بطری شیشه ای ما در رواج و صنعتی شدن تولید است. پدیده کندوپاش توسط Grove of A1 بر روی کاتد روی سطح لوله تخلیه کشف می شود.

یون‌های پرانرژی (یا یون‌های خنثی) و مواد هدف برای ایجاد برخورد الاستیک، سطح هدف یون‌ها این تکانه را جذب می‌کند و سپس برخورد بیشتر با یون‌های اطراف، نتیجه قطع شدن اتم‌های سطح هدف مرتبط با پیوند بین سطح اتم به بیرون در حال پرواز است که منجر به کندوپاش می شود.

انواع اثرات ناشی از کندوپاش برای دو برابر گسیل الکترون، کندوپاش کاتد شیشه (هدف)، تجزیه تحلیلی گاز، گرم کردن کاتد، گسترش حیاط در طرح، تغییر شبکه و کاشت یون موثر است. در مقایسه با تعداد ذرات مثبت برخوردی، R به ضریب انتشار دو الکترون بطری شیشه ای تبدیل می شود و مقدار آن تحت تأثیر خواص ماده هدف، جرم یون مثبت، پتانسیل یونیزاسیون و اندازه تکانه این دو قرار می گیرد. الکترون ها

هنگامی که انرژی ذرات مثبت به ده ها تا صدها الکترون ولت می رسد، مقدار R در شرکت شیشه چند 1٪ چند یک دهم است.

هنگامی که یک یون مثبت با هدف برخورد می کند، گرم می شود و 75 درصد از انرژی آن به گرما تبدیل می شود، به طوری که ماده مورد نظر باید خنک شود تا هدف تجزیه و یا حتی حل شود. به طور کلی، انرژی بخار خلاء از منبع تبخیر برای پرواز به خارج از اتم در کارخانه شیشه 0.1ev است، در ماده هدف که از انرژی اتمی پاشیده می شود تا منبع تبخیر خلاء برای پرواز به بیرون. از انرژی اتمی به مرتبه بزرگی 1~2، حدود 5~10ev، هر واحد زمان دارای نرخ کندوپاش r,r است و چگالی یون مثبت برخوردی و مقدار ضریب کندوپاش متناسب با محصول است.